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超高真空激光脉冲沉积系统 | |
项目所在采购意向: | |
采购单位: | ****点击查看 |
采购项目名称: | 超高真空激光脉冲沉积系统 |
预算金额: | 202.500000万元(人民币) |
采购品目: | A****点击查看2402真空应用设备 |
采购需求概况 : | 拟采购超高真空激光脉冲沉积系统一套。该设备主要用于以激光脉冲方式实现单晶和多晶氧化物薄膜、金属薄膜、生物陶瓷薄膜等功能薄膜的高精度制备。设备由真空镀膜室和激光器组成。镀膜室的极限真空优于 lt;5E-10 mbar,配备4个2英寸旋转靶,配备晶振薄厚仪。薄膜沉积温度:室温 - 800 摄氏度。靶材与样品间距可调,范围:30-90 mm。配备便利的软件控制系统,能够对镀膜过程实现便利的自动控制。 |
预计采购时间: | 2025-09 |
备注: |
本次公开的****点击查看政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。